工業用精密マスク特長
現在はプリント基板の製造が中心の当社ですが、その淵源は、工業用精密写真の製造です。創立以来培った長年の技術を生かし、さまざまな工業用マスクを製造しております。
伸光写真サービスの工業用精密マスク
現在の精密写真は従来の銀塩カメラによる撮影からCAD入力・レーザープロッター出力による作画方式に変わりました。
当社は、フォトマスクのメーカーとして長年にわたる技術を生かし、プリント基板用マスク、電子精密部品加工用メタルエッチング用マスク、ガラス薄膜エッチング用マスクなど、幅広く提供しております。
- 最大描画サイズ 600×900㎜（これより大きいサイズも編集により可能です）
- 描画線幅 5μ、12.7μ、50μ、80μ（描画サイズなどにより変わります）
使用用途
マスク作成から製造、販売しております。お気軽にご相談ください。
- 各種プリント基板用フォトマスク
- IC、ハイブリットIC用フォトマスク
- メタルエッチング用マスク
- 工学用目盛り、スケール用マスク
- 厚膜、薄膜基板用マスク
- シルクスクリーン用マスク
- ネームプレート用マスク
※ 使用材料 ： フィルム、ガラス（エマルジョン、クロム）
